お知らせ
当社は「国際粉体工業展2010」に出展致します
2010.11.19
- 1.開催期間:2010年12月1日(水)~12月3日(金) 午前10:00~17:00
- 2.会場:東京ビックサイト
- 3.当社小間番号:東3ホール「S-08」
- 4.出展内容
【アーステクニカと深江パウテックの共同出展】
<実機展示>- ・〔新製品〕新型ジェットミル
- ・流動層式ジェットミル JEDI
- ・表面処理装置 クリプトロンオーブ
- ・攪拌式減圧乾燥機 ハイスピードバキュームドライヤアドバンス
- ・熱風吹込式乾燥機 ダイナミックドライヤ
- ・攪拌式混合造粒機 ハイフレックスグラル
- ・押出造粒機
- ・〔新製品〕解砕整粒機 ターボビット
- ・解砕整粒機 コニビット
- ・解砕整粒機 オシュレータ
- 5.製品・技術セミナーについて
- (1)「微粉砕機クリプトロン、表面処理装置クリプトロンオーブによる粒子加工技術」
開催日時 :12月1日(水)14:45~15:15
開催ブース:Aルーム - (2)「攪拌造粒機による減圧乾燥システムおよびVOC対策技術」
開催日時 :12月2日(木)14:00~14:30
開催ブース:Cルーム - (3)「新型ジェットミル(静的分級機構)の紹介」
開催日時 :12月3日(金)11:45~12:15
開催ブース:Bルーム
- (1)「微粉砕機クリプトロン、表面処理装置クリプトロンオーブによる粒子加工技術」
皆様の多数ご来場お待ちしております。